勤労日記

ちば新事業創出ネットワークが、産学連携促進の一環として、独立行政法人放射線医学総合研究所の見学会を開催します。独立行政法人放射線医学総合研究所は、放射線と人々との健康に関わる総合的な研究開発に取り組む研究機関です。重粒子線を用いたがん治療研究及び生体における分子レベルの異常を画像化する分子イメージング研究などの「放射線の医学的利用のための研究」と、「放射線安全・緊急被ばく医療研究」と、を2つの柱として様々な研究を実施しています。開催概要は、以下の通りです。

日時 ：平成２６年１１月２５日（火）14時00分～16時30分

会場：独立行政法人放射線医学総合研究所（千葉市稲毛区穴川4-9-1）

集合場所：分子イメージング棟１F

定員：20名

参加費 ：無料

見学内容（予定）：

概要説明・DVD上映、先端研究基盤共用施設の紹介

二方向二線源同時ガンマ線照射装置（先端研究基盤共用）：二方向X線照射装置は、放射線強度の極めて高い環境下で使用される機器（モニター用CCDカメラ、制御機器電子回路など）あるいはゴム、シール材といった素材開発に使用されます。

静電加速器棟（先端研究基盤共用）：多元素同時定量(PIXE）分析用加速器は、動植物の体内に含まれる抗癌剤（白金）の動態、カルシウム、ケイ素の分布や各種金属の検出を複数同時測定ができ環境分析が可能

重粒子線棟：重粒子線がん治療装置（HIMAC）を見ることができる。また、ビームラインは治療照射の研究のみならず、原子・原子核・放射線物理・放射化学や放射線生物などの基礎研究から臨床研究まで広く所内外の研究者に共同利用研究に利用されている。

新治療研究棟：3次元スキャニング照射による治療を開始されている。

お申し込み方法など詳細につきましては、公益財団法人千葉県産業振興センターのホームページをご覧ください。

第2回ちば新事業創出ネットワークセミナーとして、「ITとデジタルデータ利活用によるビジネスイノベーションの創出セミナー」が開催されます。今回は、研究開発やビジネス展開への有意義な情報を提供し、新たな事業展開の促進を図ることを目的に行われます。開催概要は、以下の通りです。

日時 ： 平成２６年１１月１７日（月）　13時30分～16時30分（予定）

会場 ： ホテルポートプラザちば２F「ルビー」

　　　　　　　（千葉市中央区千葉港８－５）

内容：

１．高精彩スキャニングによる文化財デジタルアーカイブと4Kデジタル展示

２．3Dデータを活用したビジネスソリューション

３．ICT技術を用いた障害者・高齢者支援技術 ～大学活用術～

参加費：無料

定員：70名

お申し込み方法など詳細についましては、公益財団法人千葉県産業振興センターのホームページをご覧ください。

【厚生労働省ポジティブ・アクション展開事業】公開勉強会、『“離職率ゼロ”を実現させた人事制度とは？～メンター導入の成功事例から、自社の成長戦略・女性活躍の展望を探る～』が開催されます。開催概要は、以下の通りです。

◆日時：平成26年10月23日（木）13：30～16：20 (受付：13：15～)

◆会場：調布クレストンホテル 大宴会場クラウンルーム

　　　 （京王線調布駅 北口徒歩1分　調布PARCO8階）

◆対象：企業経営者・人事労務担当者、社員育成を担当する女性

◆定員：70名

◆内容：

13:30～13:40：【ご挨拶】厚生労働省女性メンターネットワーク構築事業のご紹介

13:40～14:30：【基調講演】経営課題としての女性活躍支援〜女性の潜在的パワーを引出す人事制度とは〜

14:30～15:30：【パネルディスカッション】 女性社員の活躍を促す職場のマネジメントと、メンター制度導入時のポイント

15:30～16:20：【メンター制度導入企業の事例】①女性社員が力を発揮できる職場づくり②中小企業におけるメンター制度の活用

お申込み方法等詳細につきましては、平成26年厚生労働省委託事業ポジティブ・アクション展開事業のホームページをご覧ください。

特許出願等統計速報2014年7月版が公表された。

平成26年1月～平成26年7月（年累計）では、特許出願・実用新案出願の合計件数は195,454件、意匠登録出願の件数は16,876件、商標登録出願の件数は72,806件であった。

平成26年4月～平成26年7月（年度累計）では、特許出願・実用新案出願の合計件数は104,640件、意匠登録出願の件数は9,608件、商標登録出願の件数は44,068件であった。

年累計は、前年に比べ、特許出願・実用新案出願の合計件数は横ばい、意匠登録出願の件数は4.5％程度減、商標登録出願の件数は6％程度増であった。

年度累計では、前年度に比べ、特許出願・実用新案出願の合計件数は1％程度減、意匠登録出願の件数は6％程度減、商標登録出願の件数は8％程度増であった。

国際出願件数は、平成26年1月～平成26年7月（年累計）では、特許（受理官庁）に関しては24,358件、商標登録（本国官庁）に関しては1,107件であった。

平成26年4月～平成26年7月（年度累計）では、特許（受理官庁）に関しては12,820件、商標登録（本国官庁）に関しては669件であった。

国際出願件数は、年累計では、前年に比べ、特許（受理官庁）に関しては4.5％程度減少、商標登録（本国官庁）に関しては6％程度増であった。

年度累計では、前年度に比べ、特許（受理官庁）に関しては5％程度減少、商標登録（本国官庁）に関しては12％程度増加しています。